本发明涉及一种遮阳玻璃制品，包含玻璃基底，在该玻璃基底的一个面上设置具有日光防护功能的层的叠层，其中该叠层包括以下层的序列，从玻璃基底的表面开始：用于保护上层以抵抗来自玻璃基底的碱金属离子迁移的下层，铟锡氧化物（ITO）层，用于保护该ITO层以抵抗大气氧的上层，所述玻璃制品的特征在于所述上层和下层基本上由选自氮化硅、氮化铝或其混合物的介电材料组成，并且在与由含铬金属制成的中间层（该层任选部分或完全氧化和/或氮化）定位在所述ITO层的一侧上并与其接触，所述中间层的厚度为0.5至3纳米。

　　1.遮阳玻璃制品，包含玻璃基底，在该玻璃基底的一个面上设置具有日光防护功能的层的叠层，其中该叠层包括以下层的序列，从玻璃基底的表面开始：

　　-用于保护上层以抵抗来自玻璃基底的碱金属离子迁移的下层，其厚度为25至100nm，

　　-用于保护该ITO层以抵抗大气氧的上层，特别是在如回火或退火的热处理过程中，该上层的厚度为25至100nm，

　　-由含铬金属制成的中间层，该层任选部分或完全氧化和/或氮化，位于在所述ITO层的任一侧上并与其接触，所述中间层的厚度为0.5至3纳米。

　　2.如前述权利要求所要求保护的玻璃制品，其中所述中间层的厚度为1至2.5纳米。

　　3.如前述权利要求之一所要求保护的玻璃制品，其中该金属包含至少10重量%的Cr。

　　5.如前述权利要求所要求保护的玻璃制品，其中该合金中Cr/Ni重量比为10/90至40/60。

　　6.如前述权利要求之一所要求保护的玻璃制品，其中下保护层和上保护层基本上由氮化硅组成，任选掺杂有选自Al、Zr或B的元素。

　　7.如前述权利要求之一所要求保护的玻璃制品，在上层之上额外地包含由选自氧化硅或氧化钛的介电氧化物制成的层。

　　8.如前述权利要求所要求保护的玻璃制品，其中介电氧化物制成的层的厚度为1至15纳米。

　　9.如前述权利要求之一所要求保护的玻璃制品，其中该叠层由以下层的序列组成，由玻璃基底的表面开始：

　　-基本由氮化硅组成并任选包含铝的下层，厚度为30至100nm，优选40至90nm，

　　-镍和铬的合金的第一中间层，任选部分或完全氧化和/或氮化，厚度为0.5至3nm，优选1至2.5nm，

　　-镍和铬的合金的第二中间层，任选部分或完全氧化和/或氮化，厚度为0.5至3nm，优选1至2.5nm，

　　10.如前述权利要求所要求保护的玻璃制品，在上层之上额外地包含由选自氧化硅或氧化钛的介电氧化物制成的层，厚度为1至10nm。

　　本发明涉及玻璃基板或制品领域，特别是建筑或汽车的玻璃制品类型的领域，在其表面处包含通过堆叠一系列薄层获得的赋予其遮阳性质特别是日光防护性质的涂层。术语“玻璃制品（vitrage）”在本发明的含义中理解为是指由一个或多个玻璃基板组成的任何玻璃产品，特别是单层玻璃制品、双层玻璃制品、三层玻璃制品等等。术语“日光防护”在本发明的含义中理解为是指玻璃制品选择性限制由住宅或乘客舱外部穿过该玻璃制品进入内部的入射辐射流，特别是来自太阳辐射的红外（IR）辐射，并同时保持充足的透光率（也就是说，通常大于40%、实际上甚至50%或甚至55%的透光率）的能力。更特别地，本发明涉及具有叠层的玻璃制品，其功能层或活性层（也就是说赋予所述叠层以此类性质的主要部分的层）由铟锡氧化物组成，在本领域中也称为ITO。

　　此类具有薄层的叠层的玻璃制品由此作用于太阳辐射，并能够进行日光防护和/或绝热。这些涂层通常地通过最简单的CVD类型沉积技术或目前最通常通过靶的真空溅射沉积技术（本领域中通常也称为磁控溅射）沉积，特别是当该涂层由连续层的较复杂叠层组成时。

　　通常，具有遮阳性质的由薄层制成的叠层包含一个，实际上甚至几个活性层。术语“活性层”理解为是指显著作用于穿过所述玻璃制品的阳光辐射流的层。此类活性层以已知方式可以主要以红外辐射反射模式或主要以红外辐射吸收模式起作用。

　　特别地，目前销售的最有效的叠层混入了至少一个银类型的金属功能层，其基本上以反射IR辐射的模式起作用。这些叠层通常描述为低辐射率（低e）叠层。但是，这些层对水分非常敏感，因此只能用于双层玻璃制品，在后者的面2或3上以保护其免受水分侵袭。本发明的叠层不包含此类层。

　　例如如申请WO01/21540中所述，在本领域中也已经描述了具有日光防护功能的其它金属层，包括Nb、Ta或W类型或这些金属的氮化物类型的功能层。但是，在此类层中，太阳辐射此时被吸收，但是非选择性地被吸收，也就是说IR辐射（即，特别是其波长为大约780nm至2500nm的辐射）和可见光辐射被不加区别地吸收。此类玻璃制品由此表现出小于或最好大约为1的选择性，如TL/g比率所示。

　　根据本发明和现有技术，选择性等于透光率因数/太阳能因数g的比，如根据国际标准ISO9050（2003）所测定的那样。

　　以已知和常规的方式，在前述的比中，透光率因数（通常称为透光率TL）对应于穿过该玻璃制品的入射辐射通量，即在380至780nm的波长范围内，根据光源D65并给据国际标准ISO9050（2003）中的具体标准。

　　以已知的方式，在前述的比中，太阳因数SF，也称为g，等于穿过该玻璃制品的能量（也就是说，进入现场（entrantdanslelocal））对入射太阳能量的比。更特别地，其对应于直接穿过该玻璃制品传输的通量和被该玻璃制品（在本文中包括可能存在于其一个表面上的层的叠层）吸收并朝向内部（现场）重新发射的通量的和。还可以根据国际标准ISO9050（2003）中描述的指示确定该太阳因数。

　　通常，所有本说明书中呈现的光特性根据涉及测定用于建筑行业用玻璃的玻璃制品的光和日光特性的国际标准ISO9050（2003）中描述的原则和方法获得。

　　专利申请US2009/0320824描述了基于使用锡掺杂铟（ITO）层作为红外辐射阻隔层的交替叠层。根据该公开，当对该叠层施以最高500℃的温度时，在ITO层上粘贴氧化硅SiO2或氮化硅Si3N4制成的层显著提高了该叠层的耐久性。同样，可以表明，在ITO层下方插入氧化硅SiO2或氮化硅Si3N4制成的层能够防止碱金属从基底朝向ITO层的迁移，从而防止其劣化。但是，如该公开中所示那样使用的最小厚度等于但通常远大于100nm的氧化硅制成的层存在经济收益率的问题，因为通过“磁控管阴极溅射”技术沉积SiO2层的低速率。使用氮化硅制成的层由此从经济角度来看显得更好，其沉积速度比氧化硅大约三倍。但是，如随后详细地解释的那样，申请人公司的研究表明，使用此类含氮化物层，特别是如果具有该叠层的玻璃制品经受高温下的热处理时，反映为在玻璃制品上出现浑浊外观，这使其特别不适于用作建筑物玻璃制品。此外，已经发现，此类叠层表现出明显不足的机械强度性质，特别是对于刮擦，如在本说明书的后继部分所描述的那样。

　　本发明的主要目的首先是提供包含赋予其遮阳性质且特别是反射太阳辐射的红外辐射的性质，但是表现出高选择性——在上述含义中即大于1.1或甚至大于1.2的TL/g比的层叠层的玻璃制品，此外，所述叠层在没有特殊预防措施的情况下是经时耐久的。

　　本发明的另一目的是提供遮阳玻璃制品，其叠层特别是在热处理后，如回火或弯曲后能够保持足以用作“透明”玻璃制品的高TL，特别是大约至少40%、特别是大约至少50%和理想地大于55%的TL，该叠层的IR辐射反射性质方面不存在显著的劣化。

　　由此，根据本发明的另一方面，对玻璃制品的热处理通常是必须的，以便能够改善具有该叠层的玻璃制品的表面的IR辐射反应性质，如通过标准ISO10292（1994）,AnnexA中所述法向辐射率εN测得的那样。以公知的方式，例如描述在参考文献“Lestechniquesdel’ingénieur,Vitrageàisolationthermiquerenforcée[ReinforcedThermalInsulationGlazing],C3635(2004)”中的方式，该反射性质直接为具有包含IR反射层的叠层的玻璃制品表面辐射率的函数。特别地，以已知方式，ITO（铟锡氧化物或甚至铟和锡的混合氧化物）类型的本发明的功能层在其通过阴极溅射法沉积后，通常必须经受在大约620℃温度下几分钟的热处理以提高其结晶度并由此降低其辐射率。本发明由此提供玻璃制品，其法向辐射率εN在此类热处理后为最小，特别是小于20%且优选小于15%。

　　当然，根据对其潜在用途而言必不可少的性质，本发明的玻璃制品所具有的薄层的叠层还必须具有充分的耐机械性，特别是如果它们必须位于该玻璃制品的外表面上。它们尤其必须耐受各种用于清洁它们的装置所带来的刮擦。

　　最后，本发明的玻璃制品由此有利地能够通过促进光波长的透射率选择穿过其的辐射，即其波长为大约380至780nm，同时选择性反射更大部分的红外辐射，即其波长大于780nm，特别是近红外辐射，即其波长为大约780nm至大约1400nm。

　　根据本发明，其由此能够保持该玻璃制品所保护的房间或乘客舱的高照明，同时尽量减少因晴朗天气中的太阳辐射而进入其中的热的量，其低辐射率性质附加地能够在寒冷天气中尽量减少穿过该玻璃制品的热损失。

　　根据本发明的另一优点，它们在化学上更不那么敏感，特别是对于湿气，并由此可以定位在多层玻璃制品的外表面上或在单层玻璃制品的一个表面上，特别是其面2上（也就是说，朝向内部）。

　　更具体而言，本发明涉及一种遮阳玻璃制品，包含玻璃基底，在该玻璃基底的一个面上设置具有日光防护功能的层的叠层，其中该叠层包括以下层的序列，从玻璃基底的表面开始：

　　-用于保护上层以抵抗来自玻璃基底的碱金属离子迁移的下层，其厚度为25至100nm，优选40至90nm，

　　-用于保护该ITO层以抵抗大气氧的上层，特别是在诸如回火或退火的热处理过程中，该上层的厚度为25至100nm，优选40至90nm，

　　-由含铬金属制成的中间层（该层任选部分或完全氧化和/或氮化）定位在所述ITO层的任一侧上并与其接触，所述中间层的厚度为0.5至3纳米。

　　术语“任选部分或完全氧化和/或氮化”理解为是指通常通过常规阴极溅射技术以全金属层形式初始沉积的该中间层随后可以在该层的各种沉积或随后进行的热处理的作用下潜在地被部分或完全地氧化或氮化。例如，当随后在氮的存在下通过反应性溅射沉积该叠层的含氮化物层时（如沉积由氮化硅制成的上保护层的情况下），中间金属层的氮化根据本发明是可能的。同样，在不离开本发明的范围的情况下，如上文所述，在氧存在下磁控管沉积ITO层的过程中或在沉积全部叠层后在后继的热处理过程中，中间金属层的后继氧化是可能的。

　　在本发明的含义中，术语“铟锡氧化物”或“掺杂锡的氧化铟”（ITO）理解为是指获自氧化铟（III）（In2O3）和氧化锡（IV）（SnO2）的混合氧化物或混合物，优选重量比例对第一氧化物为70%至95%和对第二氧化物为5%至20%。典型重量比例为对大约10重量%的SnO2为大约90重量%的In2O3。

　　下保护层和上保护层基本上由氮化硅组成，任选掺杂有选自Al、Zr或B的元素。

　　作为实例，优选的本发明的遮阳玻璃制品包含由以下层的序列组成的叠层，从玻璃基底的表面开始：

　　-基本由氮化硅组成并任选包含铝的下层，厚度为30至100nm，优选40至90nm，

　　-镍和铬的合金的第一中间层，任选部分或完全氧化和/或氮化，厚度为0.5至3nm，优选1至2.5nm，

　　-镍和铬的合金的第二中间层，任选部分或完全氧化和/或氮化，厚度为0.5至3nm，优选1至2.5nm，

　　优选地，前述叠层在上层上附加地包含由选自氧化硅或氧化钛的介电氧化物制成的层，厚度为1至10nm。

　　下面的实施例仅通过例示给出并且不在任意所述方面中限制本发明的范围。出于比较的目的，下面的实施例的所有叠层在样品玻璃基底上合成。根据公知的常规磁控溅射真空沉积技术沉积该叠层的所有层。

　　在本发明的该实施例中，根据常规磁控管技术沉积一系列层以获得由下列顺序的层组成的叠层：

　　更具体并根据本领域的已知技术，在阴极溅射装置的特定和连续隔室中沉积连续层，各隔室根据要沉积的层专门配置气氛和由金属Si制成的靶、由具有可调比例的镍/铬合金制成的靶或由ITO制成的靶。

　　在该装置的第一隔室中由掺杂有8重量%的铝的金属硅靶在包含氩气和氮气的反应性气氛中根据本领域公知的工艺与运行条件沉积由氮化硅制成的层（为方便起见在所附配方中通常称为Si3N4，即使不必观察到该化学计量比）。由Si3N4制成的层由此包含少量的铝。

　　根据本领域公知的工艺与运行条件，通过用完全由氩气组成的等离子体溅射由NiCr合金（80重量%的Ni和20重量%的Cr）制成的靶获得金属NiCr层。

　　根据本领域公知的工艺与运行条件，通过在基本包含氩气和少部分氧气的气氛中溅射靶（90重量%的氧化铟和10重量%的氧化锡）获得由ITO制成的层。

　　具有该叠层的基底随后施以热处理，所述热处理包括在620℃下加热8分钟，随后进行回火。

　　根据标准ISO10292（1994）,AnnexA中所述条件，在覆盖有该叠层的基底内表面上测量法向辐射率εN。

　　根据该实施方式，以与实施例1相同的方式在相同的装置中并根据相同的工艺进行制备，获得基本相同的叠层，除了没有沉积NiCr制成的层。该叠层由此由以下顺序的层组成：

　　在该实施例中，以与实施例1相同的方式进行制备，获得基本相同的叠层，除了由NiCr制成的层表现出1.6nm的厚度。该叠层由此由以下顺序的层组成：

　　在该实施例中，以与实施例1相同的方式进行制备，获得基本相同的叠层，除了由NiCr制成的层表现出2.5nm的厚度。该叠层由此由以下顺序的层组成：

　　在该实施例中，以与实施例1相同的方式进行制备，获得基本相同的叠层，除了由NiCr制成的层表现出4.0nm的厚度。该叠层由此由以下顺序的层组成：

　　表1中给出的数据的比较表明实施例2的对比叠层表现出最佳的选择性，但是在该样品的边缘处充分可见浑浊，这使得无法使用此类玻璃制品。此外，由于透光率的大幅下降，根据实施例4沉积较厚的NiCr层还反映为选择性的显著降低。

　　根据EST（ErichsenScratchTest）技术测量实施例1至5的叠层的耐刮擦性。该技术涉及给出在进行测试（Vanlaar尖端，钢球）时在叠层中产生刮擦时所需的施加力的值（以牛顿为单位）。所选值是导致肉眼可见连续划痕的第一值。

　　下表2中给出的值由此是施加的力（以牛顿为单位），所述力导致出现连续划痕。

　　表2中给出的数据表明，具有NiCr层的叠层与不具有此类层的实施例2的叠层相比表现出显著改善的机械强度。

　　在这些实施例中，以与实施例相同的方式进行制备，获得基本相同的叠层，除了用厚度分别为1.6和4.0nm的金属钛制成的层替代实施例1的NiCr制成的层，所述层通过在氩气气氛中溅射钛制成的靶获得。

　　在与上述相同的条件下对该玻璃制品测量TL、g和εN因数以及该涂层的耐刮擦性。结果合并在下表3中。

　　可以清楚地看到，与NiCr制成的层相反，位于活性IRO反射层任一侧上的Ti制成的层这次不会对叠层的耐刮擦性能提供任何改善。

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　　1、10申请公布号CN104203856A43申请公布日20141210CN104203856A21申请号申请日20120321FRC03C17/34200601C03C17/3620060171申请人法国圣戈班玻璃厂地址法国库伯瓦72发明人LJ辛格A帕拉西奥拉卢瓦E桑德雷沙多纳尔74专利代理机构中国专利代理香港有限公司72001代理人段家荣林森54发明名称遮阳玻璃制品57摘要本发明涉及一种遮阳玻璃制品，包含玻璃基底，在该玻璃基底的一个面上设置具有日光防护功能的层的叠层，其中该叠层包括以下层的序列，从玻璃基底的表面开始用于保护上层以抵抗来。

　　2、自玻璃基底的碱金属离子迁移的下层，铟锡氧化物（ITO）层，用于保护该ITO层以抵抗大气氧的上层，所述玻璃制品的特征在于所述上层和下层基本上由选自氮化硅、氮化铝或其混合物的介电材料组成，并且在与由含铬金属制成的中间层（该层任选部分或完全氧化和/或氮化）定位在所述ITO层的一侧上并与其接触，所述中间层的厚度为05至3纳米。30优先权数据85PCT国际申请进入国家阶段日2014091986PCT国际申请的申请数据PCT/FR2013/7PCT国际申请的公布数据WO2013/140061FR2013092651INTCL权利要求书1页说明书6页19中华人民共和国国家知识产。

　　3、权局12发明专利申请权利要求书1页说明书6页10申请公布号CN104203856ACN104203856A1/1页21遮阳玻璃制品，包含玻璃基底，在该玻璃基底的一个面上设置具有日光防护功能的层的叠层，其中该叠层包括以下层的序列，从玻璃基底的表面开始用于保护上层以抵抗来自玻璃基底的碱金属离子迁移的下层，其厚度为25至100NM，铟和锡的混合氧化物（ITO）层，厚度为100至250NM，用于保护该ITO层以抵抗大气氧的上层，特别是在如回火或退火的热处理过程中，该上层的厚度为25至100NM，所述玻璃制品的特征在于所述上层和下层基本上由选自氮化硅、氮化铝或其混合物的介电材料组成，由含铬金属制成的中间。

　　4、层，该层任选部分或完全氧化和/或氮化，位于在所述ITO层的任一侧上并与其接触，所述中间层的厚度为05至3纳米。2如前述权利要求所要求保护的玻璃制品，其中所述中间层的厚度为1至25纳米。3如前述权利要求之一所要求保护的玻璃制品，其中该金属包含至少10重量的CR。4如前述权利要求之一所要求保护的玻璃制品，其中该金属是镍和铬的合金。5如前述权利要求所要求保护的玻璃制品，其中该合金中CR/NI重量比为10/90至40/60。6如前述权利要求之一所要求保护的玻璃制品，其中下保护层和上保护层基本上由氮化硅组成，任选掺杂有选自AL、ZR或B的元素。7如前述权利要求之一所要求保护的玻璃制品，在上层之上额外地包。

　　5、含由选自氧化硅或氧化钛的介电氧化物制成的层。8如前述权利要求所要求保护的玻璃制品，其中介电氧化物制成的层的厚度为1至15纳米。9如前述权利要求之一所要求保护的玻璃制品，其中该叠层由以下层的序列组成，由玻璃基底的表面开始基本由氮化硅组成并任选包含铝的下层，厚度为30至100NM，优选40至90NM，镍和铬的合金的第一中间层，任选部分或完全氧化和/或氮化，厚度为05至3NM，优选1至25NM，厚度为100至250NM的ITO层，镍和铬的合金的第二中间层，任选部分或完全氧化和/或氮化，厚度为05至3NM，优选1至25NM，基本由氮化硅组成并任选包含铝的上层，厚度为30至100NM。10如前述权利要求。

　　6、所要求保护的玻璃制品，在上层之上额外地包含由选自氧化硅或氧化钛的介电氧化物制成的层，厚度为1至10NM。权利要求书CN104203856A1/6页3遮阳玻璃制品0001本发明涉及玻璃基板或制品领域，特别是建筑或汽车的玻璃制品类型的领域，在其表面处包含通过堆叠一系列薄层获得的赋予其遮阳性质特别是日光防护性质的涂层。术语“玻璃制品（VITRAGE）”在本发明的含义中理解为是指由一个或多个玻璃基板组成的任何玻璃产品，特别是单层玻璃制品、双层玻璃制品、三层玻璃制品等等。术语“日光防护”在本发明的含义中理解为是指玻璃制品选择性限制由住宅或乘客舱外部穿过该玻璃制品进入内部的入射辐射流，特别是来自太阳辐射的。

　　7、红外（IR）辐射，并同时保持充足的透光率（也就是说，通常大于40、实际上甚至50或甚至55的透光率）的能力。更特别地，本发明涉及具有叠层的玻璃制品，其功能层或活性层（也就是说赋予所述叠层以此类性质的主要部分的层）由铟锡氧化物组成，在本领域中也称为ITO。0002此类具有薄层的叠层的玻璃制品由此作用于太阳辐射，并能够进行日光防护和/或绝热。这些涂层通常地通过最简单的CVD类型沉积技术或目前最通常通过靶的真空溅射沉积技术（本领域中通常也称为磁控溅射）沉积，特别是当该涂层由连续层的较复杂叠层组成时。0003通常，具有遮阳性质的由薄层制成的叠层包含一个，实际上甚至几个活性层。术语“活性层”理解为是指显。

　　8、著作用于穿过所述玻璃制品的阳光辐射流的层。此类活性层以已知方式可以主要以红外辐射反射模式或主要以红外辐射吸收模式起作用。0004特别地，目前销售的最有效的叠层混入了至少一个银类型的金属功能层，其基本上以反射IR辐射的模式起作用。这些叠层通常描述为低辐射率（低E）叠层。但是，这些层对水分非常敏感，因此只能用于双层玻璃制品，在后者的面2或3上以保护其免受水分侵袭。本发明的叠层不包含此类层。0005专利和专利申请US5800933、EP456487A2、EP560534A1和EP622645A1描述了包围低辐射率银层的中间NICR或NI层的叠层。根据这些公开文献，使用此类中间层能够解决AG金属层对位。

　　9、于该叠层各侧面上的介电层的粘合的问题，并且还描述在公开文献“AIRCACOATINGTECHNOLOGY,PROCEEDINGSOFTHE2NDCOATINGTECHNOLOGYSYMPOSIUM,1990年3月1214日”中。0006例如如申请WO01/21540中所述，在本领域中也已经描述了具有日光防护功能的其它金属层，包括NB、TA或W类型或这些金属的氮化物类型的功能层。但是，在此类层中，太阳辐射此时被吸收，但是非选择性地被吸收，也就是说IR辐射（即，特别是其波长为大约780NM至2500NM的辐射）和可见光辐射被不加区别地吸收。此类玻璃制品由此表现出小于或最好大约为1的选择性，如TL/。

　　10、G比率所示。0007根据本发明和现有技术，选择性等于透光率因数/太阳能因数G的比，如根据国际标准ISO9050（2003）所测定的那样。0008以已知和常规的方BB电子 BB平台式，在前述的比中，透光率因数（通常称为透光率TL）对应于穿过该玻璃制品的入射辐射通量，即在380至780NM的波长范围内，根据光源D65并给据国际标准ISO9050（2003）中的具体标准。0009以已知的方式，在前述的比中，太阳因数SF，也称为G，等于穿过该玻璃制品的能说明书CN104203856A2/6页4量（也就是说，进入现场（ENTRANTDANSLELOCAL）对入射太阳能量的比。更特别地，其对应于直接穿过该玻璃制品传输的通量。

　　11、和被该玻璃制品（在本文中包括可能存在于其一个表面上的层的叠层）吸收并朝向内部（现场）重新发射的通量的和。还可以根据国际标准ISO9050（2003）中描述的指示确定该太阳因数。0010通常，所有本说明书中呈现的光特性根据涉及测定用于建筑行业用玻璃的玻璃制品的光和日光特性的国际标准ISO9050（2003）中描述的原则和方法获得。0011专利申请US2009/0320824描述了基于使用锡掺杂铟（ITO）层作为红外辐射阻隔层的交替叠层。根据该公开，当对该叠层施以最高500的温度时，在ITO层上粘贴氧化硅SIO2或氮化硅SI3N4制成的层显著提高了该叠层的耐久性。同样，可以表明，在ITO层下方插入。

　　12、氧化硅SIO2或氮化硅SI3N4制成的层能够防止碱金属从基底朝向ITO层的迁移，从而防止其劣化。但是，如该公开中所示那样使用的最小厚度等于但通常远大于100NM的氧化硅制成的层存在经济收益率的问题，因为通过“磁控管阴极溅射”技术沉积SIO2层的低速率。使用氮化硅制成的层由此从经济角度来看显得更好，其沉积速度比氧化硅大约三倍。但是，如随后详细地解释的那样，申请人公司的研究表明，使用此类含氮化物层，特别是如果具有该叠层的玻璃制品经受高温下的热处理时，反映为在玻璃制品上出现浑浊外观，这使其特别不适于用作建筑物玻璃制品。此外，已经发现，此类叠层表现出明显不足的机械强度性质，特别是对于刮擦，如在本说明书。

　　13、的后继部分所描述的那样。0012本发明的主要目的首先是提供包含赋予其遮阳性质且特别是反射太阳辐射的红外辐射的性质，但是表现出高选择性在上述含义中即大于11或甚至大于12的TL/G比的层叠层的玻璃制品，此外，所述叠层在没有特殊预防措施的情况下是经时耐久的。0013本发明的另一目的是提供遮阳玻璃制品，其叠层特别是在热处理后，如回火或弯曲后能够保持足以用作“透明”玻璃制品的高TL，特别是大约至少40、特别是大约至少50和理想地大于55的TL，该叠层的IR辐射反射性质方面不存在显著的劣化。0014由此，根据本发明的另一方面，对玻璃制品的热处理通常是必须的，以便能够改善具有该叠层的玻璃制品的表面的IR辐。

　　14、射反应性质，如通过标准ISO10292（1994）,ANNEXA中所述法向辐射率N测得的那样。以公知的方式，例如描述在参考文献“LESTECHNIQUESDELINGNIEUR,VITRAGEISOLATIONTHERMIQUERENFORCEREINFORCEDTHERMALINSULATIONGLAZING,C36352004”中的方式，该反射性质直接为具有包含IR反射层的叠层的玻璃制品表面辐射率的函数。特别地，以已知方式，ITO（铟锡氧化物或甚至铟和锡的混合氧化物）类型的本发明的功能层在其通过阴极溅射法沉积后，通常必须经受在大约620温度下几分钟的热处理以提高其结晶度并由此降低其辐射率。。

　　15、本发明由此提供玻璃制品，其法向辐射率N在此类热处理后为最小，特别是小于20且优选小于15。0015当然，根据对其潜在用途而言必不可少的性质，本发明的玻璃制品所具有的薄层的叠层还必须具有充分的耐机械性，特别是如果它们必须位于该玻璃制品的外表面上。它们尤其必须耐受各种用于清洁它们的装置所带来的刮擦。0016最后，本发明的玻璃制品由此有利地能够通过促进光波长的透射率选择穿过其的辐射，即其波长为大约380至780NM，同时选择性反射更大部分的红外辐射，即其波长大于780NM，特别是近红外辐射，即其波长为大约780NM至大约1400NM。0017根据本发明，其由此能够保持该玻璃制品所保护的房间或乘客舱的。

　　16、高照明，同时说明书CN104203856A3/6页5尽量减少因晴朗天气中的太阳辐射而进入其中的热的量，其低辐射率性质附加地能够在寒冷天气中尽量减少穿过该玻璃制品的热损失。0018根据本发明的另一优点，它们在化学上更不那么敏感，特别是对于湿气，并由此可以定位在多层玻璃制品的外表面上或在单层玻璃制品的一个表面上，特别是其面2上（也就是说，朝向内部）。0019更具体而言，本发明涉及一种遮阳玻璃制品，包含玻璃基底，在该玻璃基底的一个面上设置具有日光防护功能的层的叠层，其中该叠层包括以下层的序列，从玻璃基底的表面开始用于保护上层以抵抗来自玻璃基底的碱金属离子迁移的下层，其厚度为25至100NM，优选40。

　　17、至90NM，铟和锡的混合氧化物（UNOXIDEMIXTEDINDIUMETDTAIN）（ITO）层，厚度为100至250NM，优选100至200NM，用于保护该ITO层以抵抗大气氧的上层，特别是在诸如回火或退火的热处理过程中，该上层的厚度为25至100NM，优选40至90NM，所述上层和下层基本上由选自氮化硅、氮化铝或其混合物的介电材料组成，由含铬金属制成的中间层（该层任选部分或完全氧化和/或氮化）定位在所述ITO层的任一侧上并与其接触，所述中间层的厚度为05至3纳米。0020术语“任选部分或完全氧化和/或氮化”理解为是指通常通过常规阴极溅射技术以全金属层形式初始沉积的该中间层随后可以在该层的。

　　18、各种沉积或随后进行的热处理的作用下潜在地被部分或完全地氧化或氮化。例如，当随后在氮的存在下通过反应性溅射沉积该叠层的含氮化物层时（如沉积由氮化硅制成的上保护层的情BB电子 BB平台况下），中间金属层的氮化根据本发明是可能的。同样，在不离开本发明的范围的情况下，如上文所述，在氧存在下磁控管沉积ITO层的过程中或在沉积全部叠层后在后继的热处理过程中，中间金属层的后继氧化是可能的。0021在本发明的含义中，术语“铟锡氧化物”或“掺杂锡的氧化铟”（ITO）理解为是指获自氧化铟（III）（IN2O3）和氧化锡（IV）（SNO2）的混合氧化物或混合物，优选重量比例对第一氧化物为70至95和对第二氧化物为5至20。典型重量比。

　　19、例为对大约10重量的SNO2为大约90重量的IN2O3。0022根据已经给出良好性能的方式所述中间层的厚度为125纳米。0023该金属包含至少10重量的CR，优选至少20重量的CR。0024该金属是镍和铬的合金。0025该合金中CR/NI重量比为10/90至40/60，特别是大约20/80。0026下保护层和上保护层基本上由氮化硅组成，任选掺杂有选自AL、ZR或B的元素。0027该叠层在上层上附加地包含由选自氧化硅或氧化钛的介电氧化物制成的层。0028介电氧化物制成的的厚度为1至15纳米，更优选2至10纳米。0029作为实例，优选的本发明的遮阳玻璃制品包含由以下层的序列组成的叠层，从玻璃基底的。

　　20、表面开始基本由氮化硅组成并任选包含铝的下层，厚度为30至100NM，优选40至90NM，说明书CN104203856A4/6页6镍和铬的合金的第一中间层，任选部分或完全氧化和/或氮化，厚度为05至3NM，优选1至25NM，厚度为100至250NM的ITO层，镍和铬的合金的第二中间层，任选部分或完全氧化和/或氮化，厚度为05至3NM，优选1至25NM，基本由氮化硅组成并任选包含铝的上层，厚度为30至100NM。0030优选地，前述叠层在上层上附加地包含由选自氧化硅或氧化钛的介电氧化物制成的层，厚度为1至10NM。0031下面的实施例仅通过例示给出并且不在任意所述方面中限制本发明的范围。出于比较的。

　　21、目的，下面的实施例的所有叠层在样品玻璃基底上合成。根据公知的常规磁控溅射真空沉积技术沉积该叠层的所有层。0032实施例1在本发明的该实施例中，根据常规磁控管技术沉积一系列层以获得由下列顺序的层组成的叠层玻璃/SI3N4/NICR/ITO/NICR/SI3N456NM1NM175NM1NM70NM该叠层沉积在由SAINTGOBAINGLASSFRANCE以名称PARSOLH销售的玻璃板所组成的基底上，其初始透光率等于074，因数G等于060。0033更具体并根据本领域的已知技术，在阴极溅射装置的特定和连续隔室中沉积连续层，各隔室根据要沉积的层专门配置气氛和由金属SI制成的靶、由具有可调比例的镍/。

　　22、铬合金制成的靶或由ITO制成的靶。0034在该装置的第一隔室中由掺杂有8重量的铝的金属硅靶在包含氩气和氮气的反应性气氛中根据本领域公知的工艺与运行条件沉积由氮化硅制成的层（为方便起见在所附配方中通常称为SI3N4，即使不必观察到该化学计量比）。由SI3N4制成的层由此包含少量的铝。0035根据本领域公知的工艺与运行条件，通过用完全由氩气组成的等离子体溅射由NICR合金（80重量的NI和20重量的CR）制成的靶获得金属NICR层。0036根据本领域公知的工艺与运行条件，通过在基本包含氩气和少部分氧气的气氛中溅射靶（90重量的氧化铟和10重量的氧化锡）获得由ITO制成的层。0037具有该叠层的基底。

　　23、随后施以热处理，所述热处理包括在620下加热8分钟，随后进行回火。0038对本发明的玻璃制品测量TL和G因数以确定其选择性。0039根据标准ISO10292（1994）,ANNEXA中所述条件，在覆盖有该叠层的基底内表面上测量法向辐射率N。0040实施例2（对比）根据该实施方式，以与实施例1相同的方式在相同的装置中并根据相同的工艺进行制备，获得基本相同的叠层，除了没有沉积NICR制成的层。该叠层由此由以下顺序的层组成玻璃/SI3N4/ITO/SI3N456NM175NM70NM说明书CN104203856A5/6页7在与上述相同的条件下对该玻璃制品测量TL、G和N因数。0041实施例3（根据本。

　　24、发明）在该实施例中，以与实施例1相同的方式进行制备，获得基本相同的叠层，除了由NICR制成的层表现出16NM的厚度。该叠层由此由以下顺序的层组成玻璃/SI3N4/NICR/ITO/NICR/SI3N456NM16NM175NM16NM70NM在与上述相同的条件下对该玻璃制品测量TL、G和N因数。0042实施例4（根据本发明）在该实施例中，以与实施例1相同的方式进行制备，获得基本相同的叠层，除了由NICR制成的层表现出25NM的厚度。该叠层由此由以下顺序的层组成玻璃/SI3N4/NICR/ITO/NICR/SI3N456NM25NM175NM25NM70NM在与上述相同的条件下对该玻璃制品测量T。

　　25、L、G和N因数。0043实施例5（对比）在该实施例中，以与实施例1相同的方式进行制备，获得基本相同的叠层，除了由NICR制成的层表现出40NM的厚度。该叠层由此由以下顺序的层组成玻璃/SI3N4/NICR/ITO/NICR/SI3N456NM40NM175NM40NM70NM在与上述相同的条件下对该玻璃制品测量TL、G和N因数。0044在下表1中给出了获得的不同玻璃制品的特性表10045表1中给出的数据的比较表明实施例2的对比叠层表现出最佳的选择性，但是在该样品的边缘处充分可见浑浊，这使得无法使用此类玻璃制品。此外，由于透光率的大幅下降，根据实施例4沉积较厚的NICR层还反映为选择性的显著降低。

　　26、。0046耐刮擦性测试根据EST（ERICHSENSCRATCHTEST）技术测量实施例1至5的叠层的耐刮擦性。该技术涉及给出在进行测试（VANLAAR尖端，钢球）时在叠层中产生刮擦时所需的施加力的值说明书CN104203856A6/6页8（以牛顿为单位）。所选值是导致肉眼可见连续划痕的第一值。0047下表2中给出的值由此是施加的力（以牛顿为单位），所述力导致出现连续划痕。0048表2实施例2实施例3实施例4实施例5施加力N9表2中给出的数据表明，具有NICR层的叠层与不具有此类层的实施例2的叠层相比表现出显著改善的机械强度。0050实施例6和7（对比）在这些实施例中，以。

　　27、与实施例相同的方式进行制备，获得基本相同的叠层，除了用厚度分别为16和40NM的金属钛制成的层替代实施例1的NICR制成的层，所述层通过在氩气气氛中溅射钛制成的靶获得。0051实施例6的叠层由下列顺序的层组成玻璃/SI3N4/TI/ITO/TI/SI3N456NM16NM175NM16NM70NM实施例7的叠层由下列顺序的层组成玻璃/SI3N4/TI/ITO/TI/SI3N456NM40NM175NM40NM70NM在与上述相同的条件下对该玻璃制品测量TL、G和N因数以及该涂层的耐刮擦性。结果合并在下表3中。0052表30053可以清楚地看到，与NICR制成的层相反，位于活性IRO反射层任一侧上的TI制成的层这次不会对叠层的耐刮擦性能提供任何改善。说明书CN104203856A。